Intel baut in Kalifornien neue Photomasken-Fabrik für EUV- und High-NA-EUV-Chips
Intel startet in Santa Clara den Bau einer 107.000 Quadratmeter großen Photomasken-Fabrik. Die Anlage soll die Chipproduktion für fortschrittliche Knoten wie 18A und 14A sichern und die US-Semiconductor-Führerschaft stärken.